加速半导体设备国产替代

2020-03-17 10:59 | 来源:未知

加速半导体设备国产替代

一、大基金二期资金规模显著提升
 
据工商信息显示,国家集成电路产业投资基金二期股份有限公司于2019年10月22日注册成立,与大基金一期相比,二期在资金规模和来源渠道方面有明显提升。大基金一期注册资本987.2亿元,投资总规模达1387亿元,二期注册资本达2041.5亿元,较一期有显著提升;且参照大基金一期撬动5145亿元的社会融资,共计带来约6500亿元资金进入集成电路行业,我们预计大基金二期将同样具备显著撬动作用,进一步提升集成电路产业融资和发展效率。
 
二、强化半导体设备国产替代逻辑
 
强化半导体设备国产替代逻辑,二期预计加大半导体设备、材料和IC设计投资。大基金一期投资范围涵盖集成电路产业上、下游各个环节,重点在IC制造环节,其中IC制造占67%,设计占17%,封测占10%,装备材料类占6%,目前中芯国际14nm先进制程产品和长江存储64层3DNAND均已实现量产,IC制造投资战果显著。根据长江存储招标数据显示,中微公司(688012,股吧)、北方华创(002371,股吧)、精测电子(300567,股吧)等公司设备已经在刻蚀、薄膜沉积、清洗、检测等领域实现国产替代,上述领域约占半导体设备投资额的46%。大基金管理机构华芯投资表示,大基金二期将在稳固一期投资企业基础上弥补一期空白,强化薄膜沉积、刻蚀、测试和清洗设备的国产替代进度,加快光刻机等核心设备布局,同时加强半导体材料和IC设计等附加值较高环节的投资。
 
国产设备强化“中国芯”实力,建议关注半导体刻蚀、薄膜沉积、检测和清洗设备公司。根据大基金二期投资方向,我们预计半导体设备公司在薄膜沉积、刻蚀、检测和清洗等领域国产替代的脚步将进一步加快。光刻、薄膜沉积、刻蚀和离子注入是先进制程的关键环节,在半导体设备投资中占比分别约为24%,18%,10%,2.5%,北方华创、中微公司、沈阳拓荆在长江存储设备招标中占比逐步提升。清洗、检测和封装非先进制程领域设备投资占比分别约为8%,18%和10%,国内外差距相比光刻、刻蚀、离子注入等关键领域较小,国内公司已实现相关设备的国产替代。此外,大基金二期还将加大对集成电路设计业和半导体材料的支持,建议关注国产IC设计板块、半导体材料板块。
 
三、投资建议
 
随着国家集成电路产业投资基金二期的正式成立,国内半导体产业链有望迎来新一轮的产业支持。薄膜沉积设备建议关注北方华创:公司已在长江存储招标中实现国产替代;刻蚀设备建议关注北方华创、中微公司:二者具备全球领先的刻蚀技术,是半导体设备国产化中坚力量;离子注入设备建议关注万业企业(600641,股吧):产品已达到28nm以内先进制程标准;检测设备建议关注精测电子、长川科技(300604,股吧)、华峰测控;清洗设备建议关注至纯科技(603690,股吧)、芯源微。